一种凸雕陶瓷的制作方法

本实用新型涉及凸雕陶瓷技术领域，具体为一种凸雕陶瓷。

背景技术：

凸雕陶瓷文化起源于唐朝，当时国力昌盛的唐朝影响世界，各国使节纷纷来朝拜，慢慢地建立起贸易往来。

由于浮雕瓷器的特殊工艺宛如一幅活灵活现的画作展现在使用者面前，所以浮雕瓷器作为当时经典的精品礼品成为了国礼出使各国。

在现代陶瓷生产工艺中，陶瓷产品越来越多样，其中凸雕陶瓷也逐渐应用在日常生活产品领域中，凸雕陶瓷在实际操作中为了突出立体感，会将陶瓷上的凸雕与陶瓷底色采用不同绘彩效果，一般的做法是将陶瓷上的凸雕用胶纸包好再上色，这一方法存在着相比普通陶瓷更加耗时耗力的缺点，且由于凸雕边角上色困难，无法保证产品上色均匀，后期使用稳定性不够，陶瓷容易开裂或者陶瓷釉容易脱落，需要人工进行再一次修补。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术中的技术问题，从而提供一种凸雕陶瓷。

为此，本实用新型提供一种凸雕陶瓷，包括：

陶瓷本体，其外表面形成有凸雕层；

第一陶瓷釉层，喷涂在所述陶瓷本体及所述凸雕层的外表面；

第二陶瓷釉层，喷涂在所述第一陶瓷釉层外表面。

可选的，所述的凸雕陶瓷，所述凸雕层为凸雕图案。

可选的，所述的凸雕陶瓷，所述第一陶瓷釉层的厚度小于或等于所述第二陶瓷釉层。

可选的，所述的凸雕陶瓷，所述第一陶瓷釉层的厚度小于所述第二陶瓷釉层。

可选的，所述的凸雕陶瓷，还包括设置在所述第一陶瓷釉层上的用于使所述第一陶瓷釉层和所述第二陶瓷釉层结合固定的配合结构。

可选的，所述的凸雕陶瓷，所述配合结构为朝向所述第二陶瓷釉层凸出的凸点或朝向所述第二陶瓷釉层凹陷的可与所述凸点配合的凹孔。

可选的，所述的凸雕陶瓷，所述陶瓷本体为缩口状的陶瓷本体。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

1.本实用新型的凸雕陶瓷，包括：

陶瓷本体，其外表面形成有凸雕层；

第一陶瓷釉层，喷涂在所述陶瓷本体及所述凸雕层的外表面；

第二陶瓷釉层，喷涂在所述第一陶瓷釉层外表面。

上述结构的凸雕陶瓷，通过两层陶瓷釉层的设置，喷涂后进行高温烘干，通过两次烧制，降低瓷坯水分，避免瓷坯在没有完全干燥时进行高温烧制时出现开裂的现象。此外，多次烧制，可以提高凸雕陶瓷后期使用稳定性。

2.本实用新型的凸雕陶瓷，还包括设置在所述第一陶瓷釉层上的用于使所述第一陶瓷釉层和所述第二陶瓷釉层结合固定的配合结构。通过配合结构的设置，可以提高第一陶瓷釉层和第二陶瓷釉层的结合牢固度。避免后期使用时第二陶瓷釉层的脱落。

3.本实用新型的凸雕陶瓷，所述配合结构为朝向所述第二陶瓷釉层凸出的凸点或朝向所述第二陶瓷釉层凹陷的可与所述凸点配合的凹孔。配合结构简单，利于成型，制作成本低。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的凸雕陶瓷的结构示意图；

图2为本实用新型的凸雕陶瓷的陶瓷釉层和配合结构的结构示意图。

附图标记说明：

1-陶瓷本体；

2-第一陶瓷釉层；

3-第二陶瓷釉层；

4-配合结构。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

请参阅图1至图2，本实用新型提供的一种凸雕陶瓷，包括陶瓷本体1、凸雕层、陶瓷釉层和配合结构4。其中陶瓷本体1为内设有中空腔、具有开口的陶瓷本体，更具体的，包括瓷身和瓷颈，瓷身直径大于瓷颈，开口开设在瓷颈上，也即陶瓷本体1呈缩口状结构。陶瓷本体1外表面通过凸雕工艺形成有凸雕层(未示出)，具体的，凸雕层为绘制而成的凸雕图案，具体图案不做详细描述和限定，比如梅花、国画等。陶瓷釉层包括两层，分为第一陶瓷釉层2和第二陶瓷釉层3，第一陶瓷釉层2通过喷涂方式成型在陶瓷本体1和凸雕图案的外表面，第二陶瓷釉层3同样通过喷涂的方式成型在第一陶瓷釉层2的外表面。配合结构4设置在第一陶瓷釉层2外表面，用于将第一陶瓷釉层2和第二陶瓷釉层3配合固定。具体的，配合结构4可选为朝向第二陶瓷釉层3凸出的凸点或朝向第二陶瓷釉层3凹陷的凹孔，凸点和凹孔相配合。可选的，陶瓷本体1的底部设有向上凹陷的凹部。可选的，第一陶瓷釉层2和厚度与第二陶瓷釉层3的厚度一致或者略小于第二陶瓷釉层3的厚度。具体不做详细描述和限定，本领域技术人员可以根据实际情况进行选择设计所需厚度。

本实施例的凸雕陶瓷，制作陶瓷本体1，采用凸雕工艺在陶瓷本体外表面绘制形成所需的凸雕图案，制成凸雕陶瓷。将形成的凸雕陶瓷外表面进行打磨、抛光。将打磨、抛光的凸雕陶瓷进行清洗，之后高温烘干。烘干后喷涂第一陶瓷釉层2，放入烘箱预烘干。喷涂第二陶瓷釉层3，高温烧制、冷却即形成所需的凸雕陶瓷。需要说明的是，高温烘干的温度为180℃-220℃，时间为20min-40min。高温烧制温度为800-1000℃，时间为1h-2h。对于陶瓷釉层的组成成分在此不做详细描述和限定，可为现有常规的陶瓷釉，也可以自制。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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