一种茯砖茶加工专用渥堆室的制作方法
本发明涉及茯砖茶加工技术,特别是一种茯砖茶加工专用渥堆室。
背景技术:
茯砖茶,称发酵茶始祖。据史书记载第一块茯砖茶诞生于陕西咸阳泾阳县,湖南茯茶泰斗施兆鹏先生为陕西咸阳茯砖茶题字“茯茶之源”。制作茯砖茶最早原料来自陕西、四川,由于后期消费需求猛增,陕西、四川原料已无法满足加工需求,才引进湖南的黑毛茶作为茯砖茶的原料。
茯砖茶分为特制茯砖(简称特茯)和普通茯砖(简称普茯),均不分等级。外形:砖面平整,棱角分明,厚薄一致,发花普遍茂盛;特茯砖面为黑褐色,普茯砖面为黄褐色。内质:香气纯正,汤色橙黄。特茯滋味醇和;普茯滋味纯和,无涩味。茯砖茶在泡饮时,要求汤红不浊,香清不粗,味厚不涩,口劲强,耐冲泡。特别要求砖内冠突散囊菌(俗称“金花”)普遍茂盛,干嗅有花的清香。新疆各少数民族最爱茯砖茶,他们把“金花”多少视为检查茯砖茶品质好坏的唯一标志。
茯砖茶的制作过程中有一个特点就是需要渥堆。
技术实现要素:
本发明的目的在于:提出了一种茯砖茶加工专用渥堆室,用于茯砖茶制作工程中的渥堆处理。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种茯砖茶加工专用渥堆室,包括地板和设置在地板上的房体,所述房体前侧具有可开闭的门和位于房体两侧相对设置的窗,其中一侧房体上的窗上设置进气风扇,另一侧设置排气风扇,进气风扇上设置有可加热进气风的电热装置,所述房体内侧的四角布置有竖直的立柱,立柱上设置有由升降装置控制升降的拉头,在房体内侧的地板上覆盖保温被,设置柔性绳将保温被的侧沿与拉头连接。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述柔性绳的远离保温被方向端设置有插杆,所述拉头上设置有可插入插杆的插孔,所述插杆插入插孔实现连接。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述房体内侧设置有监控温度和湿度的传感器装置。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述保温被是普通棉被。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述升降装置包括分别设置于立柱两端方向的滚轮,并设置环形传动带连接两滚轮,并设置电机驱动其中一个滚轮转动,所述拉头与环形传动带的其中一侧固定连接。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述拉头上设置有限位环,所述限位环套设在立柱上。
在上述方案的基础上并作为上述方案的优选方案:所述房体内侧的地板设置有以房体中心位置为圆心的圆形标记环。
本发明的有益效果在于:
本发明的茯砖茶加工专用渥堆室,用于茯砖茶制作工程中的渥堆处理。
特点在于利于恒温控制和利于覆盖物的收放,便于中间过程的翻堆处理。
附图说明
图1为本发明的茯砖茶加工专用渥堆室结构示意图;
图2为本发明的茯砖茶加工专用渥堆室局部示意图;
图3为本发明的茯砖茶加工专用渥堆室另一视角的局部示意图。
图中:地板-1、房体-2、门-3、进气风扇-4、排气风扇-5、立柱-6、拉头-7、保温被-8、柔性绳-9、插杆-10、插孔-11、滚轮-12、电机-13、环形传动带-14、限位环-15、标记环-16。
具体实施方式
下面结合附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。
参阅图1-3,一种茯砖茶加工专用渥堆室,包括地板1和设置在地板1上的房体2,所述房体2前侧具有可开闭的门3和位于房体2两侧相对设置的窗,其中一侧房体2上的窗上设置进气风扇4,另一侧设置排气风扇5,进气风扇4上设置有可加热进气风的电热装置,所述房体2内侧的四角布置有竖直的立柱6,立柱6上设置有由升降装置控制升降的拉头7,在房体2内侧的地板1上覆盖保温被8,设置柔性绳9将保温被8的侧沿与拉头7连接。所述保温被8是普通棉被。
本发明的茯砖茶加工专用渥堆室,用于茯砖茶制作工程中的渥堆处理。特点在于利于恒温控制和利于覆盖物的收放,便于中间过程的翻堆处理。
过程中通过进气风扇4进热风加热,自然风降温的方式调节室内发酵温度。并通过在房体2内侧设置有监控温度和湿度的传感器装置来监控温度和湿度。
进一步地,所述柔性绳9的远离保温被8方向端设置有插杆10,所述拉头7上设置有可插入插杆10的插孔11,所述插杆10插入插孔11实现连接。
进一步地,所述升降装置包括分别设置于立柱6两端方向的滚轮12,并设置环形传动带14连接两滚轮12,并设置电机13驱动其中一个滚轮12转动,所述拉头7与环形传动带14的其中一侧固定连接。
进一步地,所述拉头7上设置有限位环15,所述限位环15套设在立柱6上。
进一步地,所述房体2内侧的地板1设置有以房体2中心位置为圆心的圆形标记环16。设置标记用以提示茶叶的堆放位置,利于操作。
本茯砖茶加工专用渥堆室能够通过升降装置将保温被8拉起和放下以实现自动覆盖渥堆和需要翻堆是掀起保温被8。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
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