[0001]本发明涉及溅射镀膜设备技术领域，具体为一种连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线。背景技术：[0002]目前，磁控溅射镀膜技术是当前广泛应用的真空镀膜技术方法，被普遍

• 磁控溅射
• 真空环境

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[0001]本发明涉及真空镀膜装置技术领域，具体为一种真空镀膜的玻璃基板架及其镀膜系统和镀膜系统的传输方法。背景技术：[0002]现有技术中申请号为“cn20141019725

• 真空镀膜
• 玻璃基板
• 磁控溅射
• 真空环境
• 玻璃镀膜

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[0001]本发明涉及真空镀膜设备技术领域，具体涉及一种用于镀防指纹膜的卷对卷真空镀膜设备。背景技术：[0002]传统的镀防指纹膜的方法主要是喷涂法和真空蒸发镀膜法，喷涂法一般

• 真空镀膜
• 指纹膜
• 磁控溅射
• 真空环境

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[0001]本发明涉及真空加热镀膜技术领域，具体为一种低辐射镀膜玻璃生产用镀膜装置及其镀膜方法。背景技术：[0002]真空镀膜玻璃技术，就是将所需镀膜的玻璃处于一个真空空间内，

• 镀膜玻璃
• 气泵
• 真空环境
• 玻璃清洗
• 导轨

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[0001]本发明涉及金属钒制备技术领域，尤其涉及一种金属钒的制备方法及装置。背景技术：[0002]金属钒是一种应用于炼制合金钢的重要资源。钒加入合金钢，可使其呈现出抗高温、耐

• 还原反应
• 微波加热
• 真空环境
• 氯化钙

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[0001]本实用新型涉及真空反应装置领域，特别涉及一种真空腔进样系统。背景技术：[0002]真空腔体在化学及物理领域具有广泛应用。其中，在表面科学、半导体、航空航天研究等领域

• 真空环境
• 法兰闸阀

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[0001]本实用新型涉及机械配件技术领域，具体为一种真空自补偿冲头。背景技术：[0002]现有技术中冲头主要包括冲头及连接部件，冲头外部设置冲头套，压铸冲头在工作时，冲头套外

• 真空环境

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[0001]本申请涉及金刚石加工的领域，更具体的说，它涉及一种金刚石节块及其制作方法、金刚石雕刻刀。背景技术：[0002]在当下，数控石材雕刻已经越来越多地替代人工雕刻。数控石

• 金钢石
• 雕刻刀
• 真空环境
• 钻石
• 金属注射成型

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[0001]本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及空间激光薄膜制备方法。背景技术：[0002]随着人类对空间环境探测的不断深入，以及激光器不断发展，空间激光系统已成为航天任务中的

• 离子源
• 真空环境

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[0001]本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置。背景技术：[0002]目前，提高磁控溅射设备的自动化集成度，增加产能以及提高溅射设备

• 插板阀
• 磁控溅射
• 真空环境
• 旋转变换
• 设备搬运

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