靶和用于制造靶的方法与流程
2021-01-31本发明涉及一种具有权利要求1的前序部分的特征的用于物理气相沉积的靶(涂层源)和一种具有权利要求9的特征的用于制造靶的方法。背景技术:在现有技术中,物理气相沉积方法被大范围用于制
一种发热装置、该装置的制备方法及高温加热设备与流程
2021-01-30[0001]本发明涉及高温加热设备领域,尤其涉及一种发热装置、该装置的制备方法及包含该发热装置的高温加热设备。背景技术:[0002]目前,现有技术中的加热灶具的发热方式主要有以
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