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反应溅射装置以及成膜方法与流程
2021-01-30本发明涉及成膜装置，特别涉及反应溅射装置以及成膜方法。背景技术：作为化合物膜的成膜方法，已知在反应气体的气氛下对金属靶进行溅射的反应溅射。反应溅射具有金属靶廉价并且易于处置、能
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